|
 Все новости от 23 апреля 2002 г.
Intel первой использует установку EUV для повышения быстродействия чипов
Производитель микропроцессоров заказал опытную версию новой установки, которая позволит Intel преодолеть приближающийся технологический барьер и продолжить наращивание производительности микропроцессоров.
Новая установка использует процесс вакуумно-ультрафиолетовой литографии (Extreme Ultraviolet Lithography, EUV) для нанесения на кристаллы сверхминиатюрных схем, что позволит втиснуть в чип еще больше элементов и совершить скачок на следующий уровень тактовой частоты. С применением EUV производители надеются довести ее до 10 ГГц и выше.
«Использование EUV позволит нам продолжать следовать закону Мура, обновляя поколение микропроцессоров каждые два года», — заявил в понедельник директор Intel по развитию капитального литографического оборудования Питер Сильверман (Peter Silverman).
EUV — это новый тип литографии, разработанный учеными из частных и коммерческих организаций в национальных лабораториях Livermore и Sandia.
Его главное отличие от современного оборудования фотолитографии заключается в более короткой длине волны света, используемого для нанесения изображений на поверхность кристалла. Вместо применяемых в современной литографии объективов, которые не позволили бы обеспечить достаточную для EUV точность фокусировки, в новом оборудовании используется набор зеркал.
Intel станет первым производителем микропроцессоров, получившим такой аппарат, — опытная установка EUV будет изготовлена в 2005 году. Первая экспериментальная установка этого типа построена в начале 2001 года и используется для испытаний.
«Опытная установка на базе новой технологии каждый раз заказывается с очень большим запасом времени», — поясняет Сильверман.
Оно требуется главным образом для внесения различных мелких усовершенствований.
Опытная установка EUV будет не только у Intel.
Компании Advanced Micro Devices, IBM, Infineon, Micron Technologies и Motorola тоже имеют права на первоочередное получение оборудования как члены консорциума EUV LLC, созданного с целью объединения ресурсов для разработки технологии EUV совместно с правительством США.
Intel отказалась назвать стоимость опытной установки. Коммерческое производство чипов и применение оборудования EUV начнутся лет через пять.
 Предыдущие публикации:
В продолжение темы:
| 
