Все новости от 15 апреля 2008 г.

IBM выпускает образцы 32-нм процессоров на основе технологии high-k/metal gate

При использовании 32-нм технологического процесса применение транзисторов нового типа, с металлическим затвором и изоляционным слоем с высокой диэлектрической постоянной (high-k/metal gate — HKMG), позволяет повысить быстродействие на 30%, а потребляемую мощность — на 50%. IBM предлагает заказчикам оценочные комплекты с образцами новых моделей чипов и планирует начать массовое производство с переходом на 32-нм технологический процесс в конце 2009 года. Intel начала использовать технологию high-k/metal gate в прошлом году при производстве 45-нм чипов.

В марте IBM объявила об альянсе с Hitachi. Его цель — совместные исследования в области дальнейшей миниатюризации элементов процессора, с переходом с 32-нм технологической нормы на 22-нм. Компания разрабатывает также «нанофотонную» технологию, которая позволит заменить некоторые проводники оптоволокном, чтобы повысить скорость и энергетическую эффективность передачи данных между отдельными ядрами процессора. Другое направление исследований, которые IBM ведет совместно с несколькими университетами, — транзисторы на основе углеродных нанотрубок.

В разработке новой технологии принимали участие партнеры IBM: Chartered Semiconductor, Freescale Semiconductor, Infineon Technologies, Samsung, STMicroelectronics и Toshiba, которые присутствовали на презентации в понедельник. В области производства IBM сотрудничает также с AMD, и хотя AMD официально не принимала участие в анонсе, она также получит доступ к новой технологии.

Объединенная группа разработчиков HKMG

 Предыдущие публикации:

Обсуждение и комментарии

	Удивляющийся - abusealgonet.ru 15 Apr 2008 12:24 PM
"позволяет повысить быстродействие на 30%, а потребляемую мощность — на 50%." - Слабовато потребляемую мощность повысили ..., а то опять на улице похолодало.