|
 Все новости от 30 августа 2006 г.
Chartered, IBM, Infineon и Samsung включились в гонку за 45-нм микросхемами
Во вторник четыре компании, которые сотрудничают в сфере разработки усовершенствованной технологии производства микросхем, объявили, что они получили первые работоспособные чипы на базе 45-нм технологического процесса. Они предназначены для систем связи нового поколения и разработаны партнерами совместно.
Чипы изготовлены на заводе IBM в East Fishkill (штат Нью-Йорк) из 300-мм полупроводниковых пластин. Компании утверждают, что процесс совместим с оборудованием многих других производственных линий. «Первые результаты показывают, что 45-нм устройства работают по крайней мере на 30% быстрее, чем выполненные по 65-нм технологии, и конструкторы могут смело использовать этот процесс», — говорится в заявлении Лизы Су (Lisa Su), вице-президента IBM по исследованиям и разработкам в области полупроводников и руководителя альянса.
Предполагается, что 45-нм процесс будет внедрен и сертифицирован на предприятиях Chartered, IBM и Samsung к концу 2007 года. Однако возможно, что четыре компании уже отстают от конкурентов. В начале этого года Intel раскрыла некоторые детали своего 45-нм процесса и заявила, что она выпустила первые в мире чипы на базе этой технологии. Из этого анонса следует, что компания планирует приступить к массовому производству 45-нм чипов во втором полугодии 2007 года.
Между тем компания Taiwan Semiconductor Manufacturing недавно рассказала о собственном новом 45-нм технологическом процессе. TSMC приблизила дату его пуска в эксплуатацию и намерена приступить к опытному производству в третьем квартале 2007 года.
|
