|
 Все новости от 1 марта 2000 г.
IBM предлагает новую технологию производства микросхем
На этой неделе компания IBM обнародует детали своей новой системы производства полупроводников, которая позволяет создавать микроскопические полупроводниковые приборы для более компактных и в то же время мощных сотовых телефонов и карманных устройств.
В системе нового поколения для нанесения схем на полупроводниковые пластины используются не световые волны, а электронные лучи. Электронами можно рисовать гораздо более тонкие дорожки, чем светом, что, по словам представителей IBM, решает некоторые проблемы существующих производственных процессов, физически ограничивающие дальнейшую миниатюризацию микросхем. «Это позволяет индустрии и дальше уменьшать размеры кристаллов, увеличивая их быстродействие и экономичность», — сказал Бийан Дэвери (Bijan Davari), вице-президент IBM и руководитель центра исследований и разработок в области полупроводников.
Вместе с Nikon
Подробности новой технологии, которую IBM разрабатывает совместно с японским фотогигантом Nikon, будут изложены на конференции, которая состоится на этой неделе в Санта-Кларе (штат Калифорния). Новая система, получившая название Prevail (Projection Reduction Exposure With Variable Axis Immersion Lenses), будет применяться при создании микросхем для самых разных продуктов — от карманных устройств до суперкомпьютеров. По словам Дэвери, производственное оборудование на базе этой технологии появится после 2003 года.
IBM соревнуется с другими компаниями в области разработки новых технологий производства микросхем. В ноябре производители оборудования ASM Lithography Holdings NV и Applied Materials заявили о своем намерении сотрудничать с Lucent Technologies, которая разрабатывает систему SCALPEL, также использующую для нанесения схем на полупроводниковые пластины не свет, а электронный луч.
|
